一、專性厭氧菌的介紹
根據(jù)細(xì)菌生長(zhǎng)對(duì)氧的需求,主要可分為四大類:專性需氧菌、兼性厭氧菌、專性厭氧菌、微需氧菌。
專性厭氧菌需要在嚴(yán)格無(wú)氧的氣體環(huán)境中生長(zhǎng),氧氣會(huì)對(duì)菌產(chǎn)生毒害作用,也有一些厭氧菌在含5%-10%二氧化碳?xì)怏w環(huán)境中可耐受低濃度的氧氣。常見(jiàn)的專性厭氧菌有梭菌屬(如產(chǎn)氣莢膜梭菌、肉毒梭菌、破傷風(fēng)梭菌、艱難梭菌等)、雙歧桿菌屬(如嬰兒雙歧桿菌、動(dòng)物雙歧桿菌等)、擬桿菌屬、梭桿菌屬、厭氧消化鏈球菌屬等。
二、厭氧培養(yǎng)環(huán)境的構(gòu)造
(1)使用厭氧培養(yǎng)箱,通氣培養(yǎng)。一些厭氧培養(yǎng)箱可同時(shí)進(jìn)行接種等微生物操作,并直接進(jìn)行培養(yǎng),操作方便,成功率高,缺點(diǎn)是多數(shù)實(shí)驗(yàn)室不具備,損耗較大,對(duì)于小規(guī)模的培養(yǎng)試驗(yàn)來(lái)說(shuō),成本較高。
(2)使用厭氧罐、厭氧盒或厭氧培養(yǎng)袋+厭氧產(chǎn)氣包,可制作小型或中型空間的厭氧環(huán)境,操作方便,不需要任何復(fù)雜的專門(mén)設(shè)備,可在所有實(shí)驗(yàn)室中使用,非常適合實(shí)驗(yàn)室中小規(guī)模的試驗(yàn)操作。
注意事項(xiàng):培養(yǎng)基必須與厭氧環(huán)境氣體流通,如使用試管、錐形瓶等容器培養(yǎng),必須確保塞子透氣;培養(yǎng)平皿時(shí),必須保證平皿的透氣性良好,不能使用封口膜密閉纏繞。
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(3)液體培養(yǎng)基可采用覆蓋石蠟隔絕氧氣的方法,如皰肉培養(yǎng)基、梭菌增菌培養(yǎng)基等,在培養(yǎng)基配制完成分裝后,在培養(yǎng)基上方覆蓋約0.5-1cm厚度的液體石蠟,再進(jìn)行滅菌處理,可直接進(jìn)行厭氧菌的培養(yǎng),無(wú)需使用厭氧培養(yǎng)箱或厭氧罐等設(shè)備。
注:在滅菌前覆蓋石蠟,滅菌過(guò)程中培養(yǎng)基中溶解的氧氣會(huì)逸出,冷卻后石蠟會(huì)阻隔空氣中氧氣的進(jìn)入,可以更好的制造厭氧環(huán)境;培養(yǎng)基中也可補(bǔ)加一定量的還原性鐵粉或硫乙醇酸鈉、半胱氨酸等還原性成分,幫助維持厭氧環(huán)境。
(4)有些培養(yǎng)基可自然的形成厭氧環(huán)境,無(wú)需厭氧培養(yǎng),如硫乙醇酸鹽流體培養(yǎng)基,靜置過(guò)程會(huì)自發(fā)分層,下層為無(wú)氧環(huán)境,無(wú)需任何厭氧設(shè)備,也無(wú)需覆蓋液體石蠟,即可培養(yǎng)厭氧菌。
三、常見(jiàn)厭氧菌的培養(yǎng)基
1.硫乙醇酸鹽流體培養(yǎng)基
此培養(yǎng)基常用于梭菌的活化及增菌培養(yǎng),也可對(duì)營(yíng)養(yǎng)成分進(jìn)行改良用于一些營(yíng)養(yǎng)要求較高的厭氧菌的培養(yǎng),此培養(yǎng)基可自然的形成厭氧環(huán)境,無(wú)需厭氧培養(yǎng),此培養(yǎng)基靜置過(guò)程會(huì)自發(fā)分層,下層為無(wú)氧環(huán)境,無(wú)需任何厭氧設(shè)備,也無(wú)需覆蓋液體石蠟,即可培養(yǎng)厭氧菌。
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2.皰肉培養(yǎng)基
相比較于硫乙醇酸鹽流體培養(yǎng)基,此培養(yǎng)基需覆蓋液體石蠟,用于培養(yǎng)梭菌時(shí),可以存活更長(zhǎng)時(shí)間(如生孢梭菌,在硫乙醇酸鹽流體培養(yǎng)基中只能存活數(shù)天,而在皰肉培養(yǎng)基中可存活數(shù)月以上)。
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3.GAM/改良GAM培養(yǎng)基
此培養(yǎng)基營(yíng)養(yǎng)非常豐富,適用于絕大多數(shù)的厭氧菌培養(yǎng),特別是用于比較難培養(yǎng)的營(yíng)養(yǎng)苛求型細(xì)菌(如擬桿菌屬)。
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4.血平板/CDC厭氧菌瓊脂
營(yíng)養(yǎng)豐富,適用于絕大多數(shù)厭氧菌的培養(yǎng)(梭菌、擬桿菌等均可培養(yǎng))。
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5.MRS瓊脂/肉湯
用于雙歧桿菌的培養(yǎng),制備好的MRS肉湯培養(yǎng)基澄清透明無(wú)沉淀,常用于乳酸菌或雙歧桿菌的活化、增菌及收集菌體。
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四、注意事項(xiàng)
(1)培養(yǎng)基的制備
需覆蓋石蠟的液體培養(yǎng)基,應(yīng)在滅菌前完成分裝并覆蓋液體石蠟;流體培養(yǎng)基或半固體培養(yǎng)基在有氧條件下培養(yǎng)厭氧菌時(shí),使用前可采用沸水浴或其他除氧方式排出培養(yǎng)基內(nèi)溶解的氧氣.
(2)操作過(guò)程
因氧氣會(huì)對(duì)厭氧菌產(chǎn)生毒害作用,因此整個(gè)操作過(guò)程應(yīng)在專門(mén)的無(wú)氧設(shè)備中進(jìn)行。如在正常空氣中操作,從厭氧菌暴露在空氣中開(kāi)始到放入?yún)捬醐h(huán)境中培養(yǎng)結(jié)束,整個(gè)過(guò)程應(yīng)盡可能快速操作,一般不超過(guò)15分鐘,暴露時(shí)間越長(zhǎng),厭氧菌越容易死亡。
(3)培養(yǎng)環(huán)境
可采用厭氧罐、厭氧培養(yǎng)箱、厭氧產(chǎn)氣包等方式提供厭氧環(huán)境,除了確保氣體環(huán)境無(wú)氧之外,有些厭氧菌通常還需要5%-10%的二氧化碳、氫氣等氣體促進(jìn)生長(zhǎng)并提高厭氧菌對(duì)氧氣的耐受性,更容易培養(yǎng)成功。
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